中新社紐約十二月十九日電 (鄧悅)原定于二OO九年竣工的紐約世貿遺址綜合紀念場館將推后兩年完工。負責監(jiān)管該工程的發(fā)言人周二表示，新的時間表反映了更為切合實際的工程進度。

　　名為“倒映(反思)遺缺”的紀念碑廣場以及旁邊的地下紀念博物館原本都定于二OO九年的“九一一”紀念日當天開放。

　　按照該新進度，紀念碑廣場將于二O一O年接近完工，而“九一一”紀念博物館則要二O一一年才能完工開館。據發(fā)言人介紹，紐約世貿遺址綜合紀念場館將于“九一一”事件十周年時全面竣工和對外開放。

　　紐約世貿遺址紀念場館于二OO六年春天開始進入施工，之后為了削減預算，整體設計被迫改變。原耗資十億美元的總工程削減為二億美元。盡管遭到不少“九一一”遇難者家屬的反對，紐約市府和相關機構還是批準了新的設計方案。新的設計使得地下博物館的規(guī)模變小，同時三千多名遇難者的名字也被轉移到了鄰近街區(qū)的低墻上。